今狮盾涂层/简述什么是靶材

PVD镀膜中使用的源头材料-就是靶材，特别是高纯金属靶材应用于物理气相沉积工艺中，是制备各种PVD薄膜的关键材料，无论溅射镀膜、离子镀膜和蒸发镀膜形式，都离不开靶材的使用。

PVD的工具镀、装饰镀膜、光学镀膜等方式，根据镀膜需求使用不同纯度的金属靶材，沉积所需要的膜层，获得的表面性能也是不一样的。工具镀追求的是高硬性能的薄膜，但颜色比较单一。装饰镀膜就是要华丽炫彩的外观效果，硬度一般。

（Physical Vapor Deposition, PVD）工艺，真空状态下，用加速的离子轰击靶材表面，离子和靶材表面原子交换动量，使靶材表面的离子离开靶材并沉积在被镀基材表面形成所需要的薄膜，这一过程称为溅射。被轰击沉积薄膜的源材料通常称为“靶材”。

完成溅射过程的炉腔内，是高电压、高真空环境，靶材具备良好的导电、导热性能等。

PVD镀膜目前主要有三种形式，溅射镀膜、蒸发镀膜以及离子镀膜，综合而言，离子镀密度最高、颗粒最小，而且附着力是最大的、结合力是最强的、硬度是做高的。缺点就是被镀物必须是导电材料，并且镀膜时温度会上升，这使离子镀的应用受到了很大限制。

PVD工具镀膜层多数都是使用的离子镀膜，膜层硬度高，耐磨损，耐高温、耐腐蚀性等优良特性，广泛用于制造业的模具、配件、医疗、航空、电子、粉末冶金等领域。