凤岗模具pvd表面处理价格

的物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或离子，直接沉积在基体表面的方法。制备硬质反应膜多采用物理气相沉积方法制作，利用物质热蒸发、离子轰击时物质表面原子溅射等物理过程，实现物质原子从源物质到膜的控制转移过程。物理气相沉积技术具有薄膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度控制性好、应用靶材广、溅射范围广、可沉积薄膜、成分稳定的合金薄膜和重复性好等优点。同时，物理气相沉积技术由于其工艺处理温度可控制在500℃以下，可作为高速钢和硬质合金类薄膜刀具的结束处理工艺。由于采用物理气相沉积技术可以大大提高刀具的切削性能，人们在竞争开发高性能、高可靠性设备的同时，对其应用领域的扩展，特别是高速钢、硬质合金和陶瓷类刀具的应用进行了更深入的研究。

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PVD-是 Physical Vapor Deposition的英文缩写，物理气相沉积工艺简称，是指在真空状态下，采用低电压，大电流的放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应物沉积在工件表面上，形成一层超硬膜。PVD属工艺的总称，分多弧离子镀、磁控溅射、阴极弧等制备方式。工具镀而言，根据特性分不同膜层，通用的膜层有：,TiN-氮化钛，CrN-氮化铬，TiCN-碳氮化钛，TiALN-氮化铝钛，CrALTiN-氮化钛铝铬，ZrN-氮化锆，DLC-类金刚石膜等等。制备的膜层具有高硬度、耐磨损、耐高温、耐腐蚀性等特点，适合用于模具、配件、精密部件、医疗器械、航空电子、粉末冶金等领域表面要求耐磨耐腐蚀零件表面。

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比较CVD和这两种工艺的成本不同，设备成本、周期成本、制备成本等，CVD可以对任何工件进行处理，而PVD受到很大限制，如果在这两种工艺都可用的范围之内，采用PVD要比CVD代价高。后，就是环境影响问题，是一种完全全没有污染的工序，可以称之“绿色工程”，而CVD的反应气体都具有腐蚀性、可燃性和毒性，反应尾气中含有粉末和碎片状物质，对设备、环境、人员存在一定的安全隐患。

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——CrALTiN-氮化钛铝铬的基本物理特性：外观颜色：灰黑色，涂层厚度：0.002~0.003mm，涂层维氏硬度：HV3500，涂层干摩擦系数：k<0.3，涂层抗腐蚀性：++++高强度涂层，具有较高硬度，抗腐蚀性和高温氧化性。涂层应用领域：等离子氮化+PVD组合工艺，适合铝合金压铸模具表面。适合对硬度高、腐蚀性强和高温氧化性要求高的模具、工具和零部件表面。适合于有效改善粘模，凹位滑块和镶件，压铸模具，五金冲压成型，粉末冶金制造等，含无卤、玻纤材料的塑胶成型模具使用效果非常好。

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工艺使用越来越广泛，使用在智造业很多领域。但并不是所有人对PVD工艺都很了解，往往会有客人说，你们把我们的零件镀大了、镀小了等等误会说辞，事实是他们涂层的零件材料没经过回火处理，才导致的尺寸变异。为什么前，材料要做高温回火？首先，我们就要了解炉内镀膜时的温度，工具镀PVD涂层加工时，零件是在炉腔内高真空环境下进行的，成膜温度一般在在200-500°C的温度完成（视材质而定）。其次，零件在炉内400°C以内保温时间要达到N小时。所以，需涂层处理的零件的材料必须做不低于400°C或以上高温回火处理，材料结构才能达到稳定。硬质合金类材料不在高温回火考虑范围内。

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如果材料没经过回火处理，或温度不够或回火次数达不到等，材料结构就没达到稳定，涂层时在炉内400度以内温度保温和镀膜时，相当于材料的又做了一次回火过程，会导致零件硬度降低、工件弯曲、变形、尺寸变异增大或缩小、影响尺寸公差。例如：SKD-11, SKD-61, H-13等材料，要经过510-530°C回火三次，每次3个小时，材料结构才能稳定，加工的处理，才不会出现任何问题。所以，需要涂层处理的零件的材料，必须满足达到400°C或以上高温回火处理要求。这是满足零件涂层的必要条件。各种材料不同，回火温度也不相同，要想零件达到涂层要求，就必须做好材料的高温回火要求。