中堂模具pvd纳米涂层加工

CVD反应发生在低真空的气态环境中，具有很好的绕镀性，所以密封在CVD反应器中的所有工件，除去支撑点外，全部表面能完全镀好，深孔、内壁都可以很好的镀上，而工艺技术由于气压较低，绕镀性较差，因此工件的背面和侧面涂层效果不理想，PVD炉内必须减少装载密度以免形成阴影或发彩现象，因此，装夹、固定都是比较复杂的，工艺零件在炉内通常要不停的旋转往复运动。在CVD工艺过程中，工艺条件控制非常严格，否则，系统中的反应气体或反应物的腐蚀作用会使基体脆化。

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经常有客户朋友把镀硬铬和氮化铬混为一谈，不了解二者的工艺有什么不同，今天就简单解释一下氮化铬和镀硬铬的区别和特性：首先，说一下两种工艺的概念， 工艺的氮化铬（CrN）是物理涂层，镀硬铬属化学涂层。PVD的氮化铬（CrN），属于物理气相沉积工艺，工具镀的物理涂层，材料是有色金属靶材沉积成膜，涂层均匀，无需要二次加工。维氏硬度HV1700~2000, 厚度：0.0015-0.003mm 。特点是：表面硬度高，精密，耐腐蚀性好，渗透性强，结合力好等特点。绿色环保无污染，不含铅、汞、六价铬等有毒金属成份。

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——DLC-类金刚石膜的基本物理特性：外观颜色：灰黑色，膜层厚度：0.0015-0.002mm，涂层维氏硬度：HV2500，涂层干摩擦系数：k<0.2，高适应温度：<500°C，涂层抗腐蚀性：+++ 含碳元素非晶态薄膜，由碳元素构成，又有石墨原子组成结构的物质，具有高硬度和高弹性模量，耐磨损一级良好的真空摩擦学特性，适合做耐磨润滑涂层。涂层应用领域： DLC膜层具有稳定性，耐磨性和低摩擦性能，润滑性能突出，使用领域非常广泛。适用于塑胶模具、精密零件、光学、高科技领域耐磨超硬材料上。

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是在真空技术基础上发展起來的新技术，它选用物理学或有机化学方式，消化吸收离子束、分子结构束、电子束、等离子技术束、频射和磁控等一系列新技术，为科研和具体生产制造出示塑料薄膜制取。简单点来说，在真空中挥发或磁控溅射金属、铝合金或化学物质以干固并堆积在涂敷物件(称之为板材、板材或底材)上的方式称之为真空涂敷。技术性一般分成两大类，即物理学液相堆积(PVD)技术性和有机化学液相堆积(有机化学液相堆积)技术性。物理学液相堆积技术性就是指在真空条件下根据各种各样物理方法将电镀材料挥发成分子、分子结构或弱电解质成正离子并将其立即堆积在衬底表层的方式。硬反映膜主要是根据物理学液相堆积制取的。它运用化学物质的热挥发或离子轰击时分子在化学物质表层的磁控溅射等物理学全过程，完成化学物质分子从源化学物质到塑料薄膜的可控性迁移全过程。