PVD-是 Physical Vapor Deposition的英文缩写，物理气相沉积工艺简称，是指在真空状态下，采用低电压，大电流的放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应物沉积在工件表面上，形成一层超硬膜。PVD属工艺的总称，分多弧离子镀、磁控溅射、阴极弧等制备方式。工具镀而言，根据特性分不同膜层，通用的膜层有：零件镀钛,TiN-氮化钛，CrN-氮化铬，TiCN-碳氮化钛，TiALN-氮化铝钛，CrALTiN-氮化钛铝铬，ZrN-氮化锆，DLC-类金刚石膜等等。镀钛厂家制备的膜层具有高硬度、耐磨损、耐高温、耐腐蚀性等特点，适合用于模具、配件、精密部件、医疗器械、航空电子、粉末冶金等领域表面要求耐磨耐腐蚀零件表面。

崇左镀钛——CrN-氮化铬——基本物理特性：外观颜色：银灰色，涂层厚度：0.0015~0.003mm，涂层维氏硬度：HV1800，涂层干摩擦系数：k<0.2，高适应工作温度：<700°C，涂层抗腐蚀性：+++++，具有一级的抗腐蚀性能和高温氧化性。零件镀钛应用领域：适合对高腐蚀性和高温氧化性要求比较高的共模具和零部件。 Cr元素具有很高的抗腐蚀性和耐高温氧化特性，适用于耐腐蚀、PC和尼龙料成型模具、铝材加工成型、医疗模具、铜铝用加工刀具等工模具表面。

零件镀钛是在真空技术基础上发展起來的新技术，它选用物理学或有机化学方式，消化吸收离子束、分子结构束、电子束、等离子技术束、频射和磁控等一系列新技术，为科研和具体生产制造出示塑料薄膜制取。简单点来说，在真空中挥发或磁控溅射金属、铝合金或化学物质以干固并堆积在涂敷物件(称之为板材、板材或底材)上的方式称之为真空涂敷。崇左镀钛技术性一般分成两大类，即物理学液相堆积(PVD)技术性和有机化学液相堆积(有机化学液相堆积)技术性。物理学液相堆积技术性就是指在真空条件下根据各种各样物理方法将电镀材料挥发成分子、分子结构或弱电解质成正离子并将其立即堆积在衬底表层的方式。硬反映膜主要是根据物理学液相堆积制取的。它运用化学物质的热挥发或离子轰击时分子在化学物质表层的磁控溅射等物理学全过程，完成化学物质分子从源化学物质到塑料薄膜的可控性迁移全过程。

零件镀钛——DLC是英文“DIAMOND-LIKE CARBON”一词的缩写。DLC是一种由碳元素构成、在性质上和钻石类似，同时又具有石墨原子组成结构的物质。类金刚石薄膜（DLC）是一种非晶态薄膜，由于具有高硬度和高弹性模量，低摩擦因数，耐磨损一级良好的真空摩擦学特性，很适合作为耐磨涂层，从而引起了使用上的关注和重视。镀钛厂家目前，制备DLC薄膜的方法有很多，不同的制备方法所用的碳源以及到达基体表面的离子能量不同，沉积的DLC膜层结构和性能也不同，存在着很大差别，摩擦学性能也不相同。