佛山零件镀钛涂层加工

今狮盾涂层，工具镀类PVD工艺，专注以下涂层：TiN, TiCN, CrN, TiALN(ALTiN），CrALTiN, DLC 等。按基本物理特性，分别做以下简单的基础介绍，以便于了解涂层的朋友学习。ALTiN-氮化铝钛的基本物理特性：外观颜色：灰黑色，涂层厚度：0.002~0.003mm，维氏硬度：HV3200，涂层干摩擦系数：k<0.35，高适应工作温度：<700°C，涂层抗腐蚀性：+++，具有较高的抗腐蚀性和高温氧化功能，涂层应用领域：适合对腐蚀性较强和高温氧化要求较高的工模具和零部件表面，涂层红硬性强。适用于塑胶模具、冲压成型、压铸模具、粉末冶金模具、高速加工类刀具等。

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PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写，中文意思是“物理气相沉积工艺”。指的是在真空条件下。用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的一种薄膜制备技术。PVD（物理气相沉积工艺）技术主要分三类：真空蒸发镀膜，真空溅射镀膜、真空离子镀膜。应用上也分工具镀和装饰镀两大类：技术的特点是：高硬度、高耐磨性、有很好的耐腐蚀性和膜层寿命长等特点。化学稳定性，可以大大提高工件表面的耐磨性和外观装饰型。

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设备不是核心优势，想要做出稳定的、高品质，除设备、工艺以外，还需要好的辅助设备和其他配套工艺，包括无残留清洗工艺等配套进行。辅助工艺的适应性、稳定性也是不可或缺的。今晟科技.狮盾涂层也和国内涂层同行一样，在为智造业提供优势服务，涂层人前方的路，任重而道远..... 铜铝合金压铸产品成型中，由于模具在高温下工作，受到高温液态铝、铜等合金高速摩擦造成的表面磨损，模具表面受冷热不均不断交变应力，极易产生模具表面发生微细裂纹的热疲劳龟裂现象，表面侵蚀、粘模等现象出现，成型产品的外观不良率增加，模具使用也受到很大影响。

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PVD-是 Physical Vapor Deposition的英文缩写，物理气相沉积工艺简称，是指在真空状态下，采用低电压，大电流的放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应物沉积在工件表面上，形成一层超硬膜。PVD属工艺的总称，分多弧离子镀、磁控溅射、阴极弧等制备方式。工具镀而言，根据特性分不同膜层，通用的膜层有：,TiN-氮化钛，CrN-氮化铬，TiCN-碳氮化钛，TiALN-氮化铝钛，CrALTiN-氮化钛铝铬，ZrN-氮化锆，DLC-类金刚石膜等等。制备的膜层具有高硬度、耐磨损、耐高温、耐腐蚀性等特点，适合用于模具、配件、精密部件、医疗器械、航空电子、粉末冶金等领域表面要求耐磨耐腐蚀零件表面。

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是在真空技术基础上发展起來的新技术，它选用物理学或有机化学方式，消化吸收离子束、分子结构束、电子束、等离子技术束、频射和磁控等一系列新技术，为科研和具体生产制造出示塑料薄膜制取。简单点来说，在真空中挥发或磁控溅射金属、铝合金或化学物质以干固并堆积在涂敷物件(称之为板材、板材或底材)上的方式称之为真空涂敷。技术性一般分成两大类，即物理学液相堆积(PVD)技术性和有机化学液相堆积(有机化学液相堆积)技术性。物理学液相堆积技术性就是指在真空条件下根据各种各样物理方法将电镀材料挥发成分子、分子结构或弱电解质成正离子并将其立即堆积在衬底表层的方式。硬反映膜主要是根据物理学液相堆积制取的。它运用化学物质的热挥发或离子轰击时分子在化学物质表层的磁控溅射等物理学全过程，完成化学物质分子从源化学物质到塑料薄膜的可控性迁移全过程。

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工艺使用越来越广泛，使用在智造业很多领域。但并不是所有人对PVD工艺都很了解，往往会有客人说，你们把我们的零件镀大了、镀小了等等误会说辞，事实是他们涂层的零件材料没经过回火处理，才导致的尺寸变异。为什么前，材料要做高温回火？首先，我们就要了解炉内镀膜时的温度，工具镀PVD涂层加工时，零件是在炉腔内高真空环境下进行的，成膜温度一般在在200-500°C的温度完成（视材质而定）。其次，零件在炉内400°C以内保温时间要达到N小时。所以，需涂层处理的零件的材料必须做不低于400°C或以上高温回火处理，材料结构才能达到稳定。硬质合金类材料不在高温回火考虑范围内。