横沥模具pvd纳米涂层价格

是在真空技术基础上发展起來的新技术，它选用物理学或有机化学方式，消化吸收离子束、分子结构束、电子束、等离子技术束、频射和磁控等一系列新技术，为科研和具体生产制造出示塑料薄膜制取。简单点来说，在真空中挥发或磁控溅射金属、铝合金或化学物质以干固并堆积在涂敷物件(称之为板材、板材或底材)上的方式称之为真空涂敷。技术性一般分成两大类，即物理学液相堆积(PVD)技术性和有机化学液相堆积(有机化学液相堆积)技术性。物理学液相堆积技术性就是指在真空条件下根据各种各样物理方法将电镀材料挥发成分子、分子结构或弱电解质成正离子并将其立即堆积在衬底表层的方式。硬反映膜主要是根据物理学液相堆积制取的。它运用化学物质的热挥发或离子轰击时分子在化学物质表层的磁控溅射等物理学全过程，完成化学物质分子从源化学物质到塑料薄膜的可控性迁移全过程。

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PVD-物理气相沉积工艺，随着智造业的要求越来越高，涂层使用越来越广泛，在很多领域都有涉及涂层辅助工艺的应用。但并不是所有人对PVD工艺过程都有所了解，往往会有客人说，你们把我们的零件镀大了、镀小了等等误会说辞，事实是他们并不了解涂层的零件材料必须要经过高温回火处理，才能达到镀膜条件，没做好回火处理才导致零件的变形或尺寸变异。例如：SKD-11, SKD-61, H-13等材料，要经过510-530°C回火三次，每次3个小时，材料结构才能稳定，零件在处理时，才不会出现任何问题。预硬料必须经过重新热处理按要求做好回火后，才能涂层加工。所以，需要涂层处理的零件的材料，必须满足达到400°C或以上高温回火处理要求。这是满足零件涂层的必要条件。

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我司在中国模具产业配套和智造重镇---东莞市长安镇，环保工厂，专业工具镀，物理气相沉积工艺，专业研发和加工服务。 我司使用多弧离子镀膜设备，运用多弧离子镀高能离子与弧光放电相结合的工艺，以12年类扩散技术经验，制备的膜层具有高硬度、耐磨损，耐腐蚀性好、扩散结合力强等特点，专业为模具和精密零部件表面涂层处理。 我司主营涂层产品：TiN-氮化钛，CrN-氮化铬，碳氮化钛-TiCN，氮化钛铝铬-CrALTiN，氮化铝钛-TiALN，CrALN-X，碳膜-DLC等。 我司多项涂层取得专利应用技术，专业为客户提供优质方案服务。

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——同PVD相比，CVD的大优势就是良好的阶梯覆盖性能，同时具有便于制备复合产物、不需要高真空和淀积速率高等优点。工艺温度高低是CVD和PVD之间的主要区别。温度对于高速速钢镀膜具有重大意义。CVD法的工艺温度超过了高速钢回火温度，用CVD处理过的高速钢工件，必须进行镀膜后真空热处理，以恢复硬度。镀后热处理会产生不容许的变形。CVD工艺对工件表面清洁要比PVD工艺要求低些，因为高温下表面的脏东西会烧掉，此外，高温下得到的镀层结合强度要更好一些。CVD涂层往往比各种PVD涂层略厚一些，CVD涂层厚度在0.0075mm, 厚度通常在0.003mm左右,CVD涂层比较粗糙，而PVD涂层能如实的反应在材料表面，具有很光的金属光泽，这点在装饰镀膜上很重要。

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工艺成本较高，膜层均匀，耐磨性、防腐蚀性效果好，二. 镀硬铬，是水电镀铬，属化学涂层。维氏硬度HV500-600，厚度少0.05~0.15mm或以上，含铅、汞等有毒成份，工序污染材料不环保，硬度低，表面粗燥，需要再加工的劣势。特点是：使用成本低，防锈效果好，耐盐雾时间长。工艺氮化铬（CrN）涂层，因特性优于化学镀硬铬和环保等原因，应用非常广泛，航空、电子、机械、五金、医疗、模具制造等行业广泛使用，完全替代了原来的化学电镀铬。

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——CrN-氮化铬——基本物理特性：外观颜色：银灰色，涂层厚度：0.0015~0.003mm，涂层维氏硬度：HV1800，涂层干摩擦系数：k<0.2，高适应工作温度：<700°C，涂层抗腐蚀性：+++++，具有一级的抗腐蚀性能和高温氧化性。应用领域：适合对高腐蚀性和高温氧化性要求比较高的共模具和零部件。 Cr元素具有很高的抗腐蚀性和耐高温氧化特性，适用于耐腐蚀、PC和尼龙料成型模具、铝材加工成型、医疗模具、铜铝用加工刀具等工模具表面。