高埗零件表面涂层加工

是在真空技术基础上发展起來的新技术，它选用物理学或有机化学方式，消化吸收离子束、分子结构束、电子束、等离子技术束、频射和磁控等一系列新技术，为科研和具体生产制造出示塑料薄膜制取。简单点来说，在真空中挥发或磁控溅射金属、铝合金或化学物质以干固并堆积在涂敷物件(称之为板材、板材或底材)上的方式称之为真空涂敷。技术性一般分成两大类，即物理学液相堆积(PVD)技术性和有机化学液相堆积(有机化学液相堆积)技术性。物理学液相堆积技术性就是指在真空条件下根据各种各样物理方法将电镀材料挥发成分子、分子结构或弱电解质成正离子并将其立即堆积在衬底表层的方式。硬反映膜主要是根据物理学液相堆积制取的。它运用化学物质的热挥发或离子轰击时分子在化学物质表层的磁控溅射等物理学全过程，完成化学物质分子从源化学物质到塑料薄膜的可控性迁移全过程。

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物理气相沉积工艺--，是目前国际上使用比较广泛的先进的表面处理技术。成膜原理就是真空状态下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时，把蒸发物或其反应物沉积在基体上。具有沉积速度快和表面清洁的特点，膜层附着力强、绕射性好、可镀材料广泛等提点。膜层具有高硬度、低摩擦系数，很好的耐磨性和稳定性等特点，在制造业领域得到了高度重视和使用。工艺对环境无不利影响，符合现在绿色制造方向，制程环保和利用率高等特点，在制造业领域得以广泛应用。

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——同PVD相比，CVD的大优势就是良好的阶梯覆盖性能，同时具有便于制备复合产物、不需要高真空和淀积速率高等优点。工艺温度高低是CVD和PVD之间的主要区别。温度对于高速速钢镀膜具有重大意义。CVD法的工艺温度超过了高速钢回火温度，用CVD处理过的高速钢工件，必须进行镀膜后真空热处理，以恢复硬度。镀后热处理会产生不容许的变形。CVD工艺对工件表面清洁要比PVD工艺要求低些，因为高温下表面的脏东西会烧掉，此外，高温下得到的镀层结合强度要更好一些。CVD涂层往往比各种PVD涂层略厚一些，CVD涂层厚度在0.0075mm, 厚度通常在0.003mm左右,CVD涂层比较粗糙，而PVD涂层能如实的反应在材料表面，具有很光的金属光泽，这点在装饰镀膜上很重要。

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工艺成本较高，膜层均匀，耐磨性、防腐蚀性效果好，二. 镀硬铬，是水电镀铬，属化学涂层。维氏硬度HV500-600，厚度少0.05~0.15mm或以上，含铅、汞等有毒成份，工序污染材料不环保，硬度低，表面粗燥，需要再加工的劣势。特点是：使用成本低，防锈效果好，耐盐雾时间长。工艺氮化铬（CrN）涂层，因特性优于化学镀硬铬和环保等原因，应用非常广泛，航空、电子、机械、五金、医疗、模具制造等行业广泛使用，完全替代了原来的化学电镀铬。

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——DLC-类金刚石膜的基本物理特性：外观颜色：灰黑色，膜层厚度：0.0015-0.002mm，涂层维氏硬度：HV2500，涂层干摩擦系数：k<0.2，高适应温度：<500°C，涂层抗腐蚀性：+++ 含碳元素非晶态薄膜，由碳元素构成，又有石墨原子组成结构的物质，具有高硬度和高弹性模量，耐磨损一级良好的真空摩擦学特性，适合做耐磨润滑涂层。涂层应用领域： DLC膜层具有稳定性，耐磨性和低摩擦性能，润滑性能突出，使用领域非常广泛。适用于塑胶模具、精密零件、光学、高科技领域耐磨超硬材料上。

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为什么零件前，材料必须要做高温回火？首先，我们就要了解涂层时炉内的温度是高温的，工具镀时，零件是在炉腔内高真空环境下进行的，成膜温度一般在在200-500°C的温度下完成（视材质而定）。其次，零件在炉内400°C以内保温时间要达到N小时。所以，需涂层处理的零件的材料必须做不低于400°C或以上高温回火处理，材料结构才能达到稳定。硬质合金类材料不在高温回火考虑范围内。如果材料没经过高温回火处理，或温度达不到要求，或回火次数达不到等原因，材料结构就没达到稳定，涂层时在炉内400度以内温度保温和镀膜时，相当于材料又做了一次回火过程，会导致零件硬度降低、工件弯曲、变形、尺寸变异增大或缩小、影响尺寸公差。