揭阳零件镀钛厂家

的物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或离子，直接沉积在基体表面的方法。制备硬质反应膜多采用物理气相沉积方法制作，利用物质热蒸发、离子轰击时物质表面原子溅射等物理过程，实现物质原子从源物质到膜的控制转移过程。物理气相沉积技术具有薄膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度控制性好、应用靶材广、溅射范围广、可沉积薄膜、成分稳定的合金薄膜和重复性好等优点。同时，物理气相沉积技术由于其工艺处理温度可控制在500℃以下，可作为高速钢和硬质合金类薄膜刀具的结束处理工艺。由于采用物理气相沉积技术可以大大提高刀具的切削性能，人们在竞争开发高性能、高可靠性设备的同时，对其应用领域的扩展，特别是高速钢、硬质合金和陶瓷类刀具的应用进行了更深入的研究。

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PVD-是 Physical Vapor Deposition的英文缩写，物理气相沉积工艺简称，是指在真空状态下，采用低电压，大电流的放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应物沉积在工件表面上，形成一层超硬膜。PVD属工艺的总称，分多弧离子镀、磁控溅射、阴极弧等制备方式。工具镀而言，根据特性分不同膜层，通用的膜层有：,TiN-氮化钛，CrN-氮化铬，TiCN-碳氮化钛，TiALN-氮化铝钛，CrALTiN-氮化钛铝铬，ZrN-氮化锆，DLC-类金刚石膜等等。制备的膜层具有高硬度、耐磨损、耐高温、耐腐蚀性等特点，适合用于模具、配件、精密部件、医疗器械、航空电子、粉末冶金等领域表面要求耐磨耐腐蚀零件表面。

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比较CVD和这两种工艺的成本不同，设备成本、周期成本、制备成本等，CVD可以对任何工件进行处理，而PVD受到很大限制，如果在这两种工艺都可用的范围之内，采用PVD要比CVD代价高。后，就是环境影响问题，是一种完全全没有污染的工序，可以称之“绿色工程”，而CVD的反应气体都具有腐蚀性、可燃性和毒性，反应尾气中含有粉末和碎片状物质，对设备、环境、人员存在一定的安全隐患。

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如果材料没经过回火处理，或温度不够或回火次数达不到等，材料结构就没达到稳定，涂层时在炉内400度以内温度保温和镀膜时，相当于材料的又做了一次回火过程，会导致零件硬度降低、工件弯曲、变形、尺寸变异增大或缩小、影响尺寸公差。例如：SKD-11, SKD-61, H-13等材料，要经过510-530°C回火三次，每次3个小时，材料结构才能稳定，加工的处理，才不会出现任何问题。所以，需要涂层处理的零件的材料，必须满足达到400°C或以上高温回火处理要求。这是满足零件涂层的必要条件。各种材料不同，回火温度也不相同，要想零件达到涂层要求，就必须做好材料的高温回火要求。

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——DLC-类金刚石膜的基本物理特性：外观颜色：灰黑色，膜层厚度：0.0015-0.002mm，涂层维氏硬度：HV2500，涂层干摩擦系数：k<0.2，高适应温度：<500°C，涂层抗腐蚀性：+++ 含碳元素非晶态薄膜，由碳元素构成，又有石墨原子组成结构的物质，具有高硬度和高弹性模量，耐磨损一级良好的真空摩擦学特性，适合做耐磨润滑涂层。涂层应用领域： DLC膜层具有稳定性，耐磨性和低摩擦性能，润滑性能突出，使用领域非常广泛。适用于塑胶模具、精密零件、光学、高科技领域耐磨超硬材料上。

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-是物理气相沉积工艺，工具镀成膜时有两个重要条件：一是高真空状态，二是高温条件。所以，镀膜的工件必须是基材表面干净、无任何附着物的条件下，才能装夹进入炉腔体内完成镀膜。对（待涂层）的工件表面有比较高的要求：表面不能有其他表面改性处理附着表面上，如回火氧化层、电镀铬、渗氮层、渗碳层、磷化层、氧化发黑层等。表面不能有锈迹、油漆、胶水、烧焦料、TD或CVD等处理。组合式的工件或模具、镶件、水堵头、螺丝、不同金属镶件等，必须完全拆解成单独零件，以便于镀前清洗——。