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企石模具纳米涂层加工

发布时间:2023-01-13 01:08:06
企石模具纳米涂层加工

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我司在中国模具产业配套和智造重镇---东莞市长安镇,环保工厂,专业工具镀,物理气相沉积工艺,专业研发和加工服务。 我司使用多弧离子镀膜设备,运用多弧离子镀高能离子与弧光放电相结合的工艺,以12年类扩散技术经验,制备的膜层具有高硬度、耐磨损,耐腐蚀性好、扩散结合力强等特点,专业为模具和精密零部件表面涂层处理。 我司主营涂层产品:TiN-氮化钛,CrN-氮化铬,碳氮化钛-TiCN,氮化钛铝铬-CrALTiN,氮化铝钛-TiALN,CrALN-X,碳膜-DLC等。 我司多项涂层取得专利应用技术,专业为客户提供优质方案服务。

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的物理气相沉积技术是指在真空条件下,利用各种物理方法,将镀料气化成原子、分子或离子,直接沉积在基体表面的方法。制备硬质反应膜多采用物理气相沉积方法制作,利用物质热蒸发、离子轰击时物质表面原子溅射等物理过程,实现物质原子从源物质到膜的控制转移过程。物理气相沉积技术具有薄膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度控制性好、应用靶材广、溅射范围广、可沉积薄膜、成分稳定的合金薄膜和重复性好等优点。同时,物理气相沉积技术由于其工艺处理温度可控制在500℃以下,可作为高速钢和硬质合金类薄膜刀具的结束处理工艺。由于采用物理气相沉积技术可以大大提高刀具的切削性能,人们在竞争开发高性能、高可靠性设备的同时,对其应用领域的扩展,特别是高速钢、硬质合金和陶瓷类刀具的应用进行了更深入的研究。

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PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写,中文意思是“物理气相沉积工艺”。指的是在真空条件下。用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的一种薄膜制备技术。PVD(物理气相沉积工艺)技术主要分三类:真空蒸发镀膜,真空溅射镀膜、真空离子镀膜。应用上也分工具镀和装饰镀两大类:技术的特点是:高硬度、高耐磨性、有很好的耐腐蚀性和膜层寿命长等特点。化学稳定性,可以大大提高工件表面的耐磨性和外观装饰型。

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几种常用材料前的热处理和回火要求:SKD-11,SKD-61,H-13,铬12钼钒(Cr12MoV)等材料,510-530°C 回火三次,每次3个小时。DC53材料,硬度62°-64C之间,510°C回火一次,550°C回火二次或三次以上。SKD51材料,属高速钢,550-560°C 回火三次以上,每次保持4小时以上。20Cr(20铬)材料,淬火料要650°C退火处理,保温2小时。720-750°C淬火的料好做500°C回火处理2小时,这样才能达到稳定。王牌钢(S50C)材料,不能高温回火,所以不能涂层,容易变形。一胜百材料含碳量比较高,不适合做高温回火,处理容易变形。以上几种常见材料,经过稳定的热处理和回火后,才能达到材质结构稳定,才能做涂层处理不变形。

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涂层前材料基本回火要求:的生成温度<400°C(280-400°C),但视材质而定。涂层工件的回火温度必须达到在400°C左右或以上,否则,工件会弯曲、变形,尺寸变异增大或缩小等。达到回火要求的涂层工件,可以保证尺寸公差在要求范围0.003mm以内,工件寿命可以提高3-5倍,甚至更高。但使用材料不同,使用寿命就有所差异。块材或没有经过热处理和回火的工件材料结构没达到稳定状态,做涂层处理,相当做了一次回火过程,会出现工件变形,尺寸增大或缩小,影像尺寸公差。钨钢与其它硬质合金等材料不受回火限制。