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东莞真空镀膜的优点及常用方法

文章出处: 东莞市今晟纳米科技有限公司 发表时间:2019-11-04 10:38:18
真空镀膜就是在真空下镀膜,真空下成膜有许多长处:可削减蒸发材料的原子、分子在飞向基板进程中于分子的碰撞,真空镀膜削减气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应(如氧化等),以及削减成膜进程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量,从而提供膜层的致密度、纯度、堆积速率和与基板的附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa,关于蒸发源与基板间隔较远和薄膜质量要求很高的场合,则要求压力更加低。
真空镀膜的常用方法许多,下面来让我们一同去了解下:
1、真空蒸镀:将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室,抽空后将膜料加热到高温,使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面,凝结而成薄膜。
2、阴极溅射镀:将需镀膜的基体放在阴极对面,把慵懒气体(如氩)通入已抽空的室内,保持压强约1.33~13.3Pa,然后将阴极接上2000V的直流电源,便激发辉光放电,带正电的氩离子撞击阴极,使其射出原子,溅射出的原子通过慵懒气氛堆积到基体上构成膜。
3、真空镀膜化学气相堆积:通过热分化所选定的金属化合物或有机化合物,取得堆积薄膜的进程。
4、离子镀:实质上离子镀系真空蒸镀和阴极溅射镀的有机结合,兼有两者的工艺特色。
此文关键字: 真空镀膜

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