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今晟科技ᅵ狮盾涂层,PVD.物理气相沉积工艺

文章出处: 东莞市今晟纳米科技有限公司 发表时间:2020-04-21 11:49:48

            PVD-是Physical  Vapor  Deposition的英文缩写,物理气相沉积工艺简称,是指在真空状态下,采用低电压,大电流的放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离,利用电场的加速作用,使被蒸发物质及其反应物沉积在工件表面上,形成一层超硬膜。

        PVD属工艺的总称,分多弧离子镀、磁控溅射、阴极弧等制备方式。工具镀而言,根据特性分不同膜层,通用的膜层有:TiN-氮化钛,CrN-氮化铬,TiCN-碳氮化钛,TiALN-氮化铝钛,CrALTiN-氮化钛铝铬,ZrN-氮化锆,DLC-类金刚石膜等等。

工具镀制备的膜层具有高硬度、耐磨损、耐高温、耐腐蚀性等特点,适合用于模具、配件、精密部件、医疗器械、航空电子、粉末冶金等要求耐磨耐腐蚀零件表面。

        狮盾涂层运用独弧离子镀的“类扩散”技术制备涂层,具有很高的晶体相结构变换结合强度,多层多金属元素特点,结合力强,具有高耐磨性、抗腐蚀性和耐高温氧化性等特点。

此文关键字: 狮盾涂层,TiN-氮化钛,CrN-氮化铬,TiCN-碳氮化钛,TiALN-氮化铝钛,CrALTiN-氮化钛铝铬

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